SOCIOLOGISKE MEKANISMER BAG IKT-RELATERET TECHNOSTRESS PÅ ARBEJDSPLADSEN

Research output: Conference Article in Proceeding or Book/Report chapterBook chapterResearchpeer-review

Abstract

I meget digitaliserede lande som Danmark, viser statistikken, at en ud af fire ansatte har oplevet højestressniveauer. Dog er viden om dette fænomen, på trods af omfattende forskningsbeviser for tilstedeværelsen af technostress, endnu ikke en del af materialet og vejledningerne fra officielle myndigheder. Tidligere forskning i technostress har givet kvantitative psykologiske og neurofysiologiske perspektiver på technostress med fokus på individet, teknologien eller det teknologiske miljø. Vi betragter dette som en begrænset tilgang, da den udelukker det sociale miljø, hvor technostress opstår. Vores hensigt er at vise de sociologiske mekanismer, som
bidrager til technostress ved at bruge en sociologisk pligtlinse. Vi spørger: 'Hvilken viden kan den sociologiske pligtlinse tilføre den teoretiske forståelse af technostress?' Til at besvare vores forskningsspørgsmål bruger vi et indlejret casestudie i Danmark ved at se på det eksisterende politiske materiale og interviews med 14 ansatte fra seks forskellige organisationer. Vi mener, at stress i praksis mest betragtes fra et responsperspektiv, som peger på individet. Denne synsvinkel er en iboende del af, hvordan individer tager ansvar for den technostress,
de oplever. Et andet kritisk resultat fra vores data er, at technostress er socialt konstrueret. Vores teoretiske bidrag er anvendelsen af en for IS ukendt teori, og en kvalitativ tilgang til forskning i technostress, som giver os mulighed for at afdække, hvordan den sociale pligtkonstruktion påvirker den enkelte ansatte. Vores teoretiske
bidrag peger på behovet for en praksis, som bevæger sig i retning af at betragte technostress som et samfundsmæssigt snarere end et udelukkende individuelt ansvar.
Original languageDanish
Title of host publicationStudier af relevante og tidstypiske digitale udfordringer i en dansk/nordisk kontekst : En forskningsantologi fra Business IT-instituttet på IT-Universitetet i København
EditorsLouise Harder Fischer, Hanne Westh Nicolajsen
Number of pages21
Place of PublicationITU
Publication dateJan 2023
Edition1
Pages41-61
Chapter3
ISBN (Electronic)978-87-7949-648-4
Publication statusPublished - Jan 2023

Keywords

  • teknostress

Cite this